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多晶硅和单晶硅的瞬态光电导寿命测试方法


发布日期:[2025-06-17] 共阅[203]次
瞬态光电导寿命测试仪用于多晶硅、硅单晶生产及高校和科研等。用于多晶硅和单晶硅的控制及实验室科研。仪器采用高频光电导法,样品表面切割研磨面进行测量,寿命仪的放大倍数是可变的。当出现超过5V的光电导电压后,可将放大倍数减为10倍。
产品特点:
1.放大器放大倍数可调,可放大2倍、10倍、30倍。
2.光强电压、脉冲宽度由软件测试系统界面设定。
3.光强电压可按设定的步距自动增加,并同时显示光强增加后寿命值的变化。
4.可自动计算出不同光源电压下的光脉冲对样品产生的注入比。
规格参数:
适合范围:测量多晶硅检验棒、单晶切断后的段料及头尾料;
硅单晶电阻率ρ的测量范围:5-104Ω•cm;
红外发光二极管波长:1.06µm;
脉宽范围:120µs;
光源电压:1.2-5V(可在界面上设定光源电压或设置自动调节)。

高频光电导少子寿命测试仪/瞬态光电导寿命测试系统

型号:GDW3-LT1000


 

 
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